# ASML 与台积电推进 High NA EUV 升级，12 英寸光掩模计划落地

Source: https://www.zaihua.news/article/43680/

[返回新闻流](https://www.zaihua.news/)
2026年9月8日 · 14:55 · [在花新闻](https://www.zaihua.news/about/)

# ASML 与台积电推进 High NA EUV 升级，12 英寸光掩模计划落地

ASML 与台积电 9 月 7 日发起产业合作，推动 High NA EUV 从现有 6 英寸光掩模转向 12 英寸规格，以提高设备生产率、降低芯片制造成本并减少拼接限制。

计划于 2031 年建立 12 英寸光掩模试产线，2033 年推动相关系统用于先进制程量产；台积电拟于 2030 年起将 High NA 用于先进节点大规模制造。

[NRC](https://www.nrc.nl/nieuws/2026/09/08/asml-gaat-samenwerken-met-taiwanese-chipgigant-tsmc-om-zijn-nieuwste-chipmachines-te-upgraden-a4936073) | [ASML](https://www.asml.com/en/news/press-releases/2026/tsmc-and-asml-announce-industry-transition-to-large-format-photomasks-for-high-na-euv)

🌸 [在花频道](http://t.me/ZaiHuaPd) · [茶馆水群](https://t.me/zaihuachat) · [投稿通道](http://t.me/ZaiHuabot)

https://cdn.zaihua.news/main/43680/mtproto-0-e60c216f5a691ec1.jpg

[上一条恢复了吗？](https://www.zaihua.news/article/43679/)[下一条DeepSeek V4.1 Flash 开启内测，支持原生多模态，速度更快成本更低](https://www.zaihua.news/article/43681/)