中芯国际测试中国首台国产 DUV 光刻机
中芯国际正在试运行中国首台由上海初创公司宇量昇研发的先进深紫外（DUV）光刻机。这款设备大部分零部件已实现国产化，但仍有部分依赖进口。SMIC利用该机生产28纳米芯片，并尝试通过多重图形化工艺实现7纳米，甚至可在低良率下挑战5纳米。
目前，中国最先进的芯片仍依赖荷兰ASML的DUV设备，而EUV光刻机因美国出口管制被禁止对华销售。业内人士称，国产设备要实现量产和稳定良率至少需要一至两年，距离与ASML竞争仍有差距。中企目标在2026年前大幅扩产，国产光刻机最快或于2027年进入量产。
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